क्वार्ट्ज ग्यास वितरण प्लेट

क्वार्ट्ज ग्यास वितरण प्लेटहरू, क्वार्जे शस्तहेड भनेर चिनिन्छ, अर्धविचटाईक्टिक बनावटको आलोचनात्मक कम्पोनेन्टहरू हुन्। असाधारण शुद्धता, उच्च तापमान प्रतिरोधको प्रतिरोध, र क्वार्ट्ज को प्रतिष्ठान, यी प्वालले वेन सतहमा प्रक्रिया ग्याँसहरूको एक समान र स्थिर प्रवाह सुनिश्चित गर्दछ। यो सटीक डेलिभरी र निर्धारण फिल्महरू वा एटेक सुविधाहरूको गुणस्तर र एकरूपता कायम राख्न यो सटीकता आवश्यक छ।

उच्च-शुद्धता fort क्वार्ट्जको मुख्य सुविधाहरू

● सामग्री: 99.9999999% उच्च-शुद्धता फ्यूज क्वार्ट्ज

● उच्च तापमान प्रतिरोध: 1000 भन्दा माथिको तापक्रमको सामना गर्नुहोस्

● संयंत्र प्रतिरोध: प्रक्रिया ग्याँसहरू र प्लाज्मा वातावरणको बिरूद्ध उत्कृष्ट समयता

● सटीक ग्यास प्रवाह: इष्टतम ग्यास डेलिभरी र जम्मा एक समानताको लागि एक समान माइक्रो-प्वाल वितरण

Corment अनुकूलन योग्य डिजाइन: आकार, प्वाल ढाँचा, र माउन्टिंग सुविधाहरू विशिष्ट उपकरण मोडेलहरूको लागि अनुरूप हुन सक्छ

अर्धन्डुडौटा निर्माणमा कोर भूमिका

1 शारीरिक वाष्प जम्मा (PVD) र रासायनिक बाफ डिमिशन (CVD)

भूमिका: PVD र CVD प्रक्रियाहरूमा, ग्यास वितरण प्लेट ठशिट प्लेटहरू ठीकसँग प्रतिक्रिया गर्दछ (E.g. SILENIA, Apmenia Apramirs एक इच्छित पातलो फिल्म गठन गर्न।

विशिष्ट प्रयोगहरू:

● समानारोपण नियन्त्रण: प्लेटको सैन्य रूपमा ईन्जिनियर गरिएको माइक्रो-प्वालहरू सुनिश्चित गर्दछन् कि ग्यास प्रवाह र एकाग्रता सम्पूर्ण वेफर सतहमा एकरूप छ। लगातार मोटाई र प्रदर्शनका साथ फिल्महरू जम्मा गर्न यो महत्त्वपूर्ण छ।

- दूषित रोकथाम: क्वार्ट्जको उच्च शुद्धताले प्लेटलाई प्रक्रिया ग्याँसहरू प्रदान गर्ने वा अशुद्धताहरू जारी गर्नबाट रोक्छ। यसले फिल्मको शुद्धता कायम राख्छ र वेफर सतहमा त्रुटिहरू रोक्दछ।

2 प्लाज्मा-बृद्धि गरिएको रासायनिक वाष्पी कप्तान (PRVD)

भूमिका: Pecvd मा, क्वार्ट्ज सर्रोहेडले प्रतिक्रियाकारी ग्यासहरू मात्र प्रदान गर्दैन तर प्लाज्मा उत्पादनको लागि इलेक्ट्रोडको रूपमा काम गर्दछ।

विशिष्ट प्रयोगहरू:

● प्लाज्मा इग्निशन: शीतहेड सामान्यतया रेडियो-फ्रिजेशन (आरएफ) स्रोतसँग प्लाज्मा उत्पादन गर्नको लागि जोडिएको छ। प्लाज्मको भित्र उच्च उर्जा कणहरूले गियस्थ्रेठेन्टकाहरूको विघटनलाई बढावा दिन्छन्, कम तापमानमा फिल्म डिल डिस्पोजिन सक्षम पार्दै।

● थर्मल स्थिरता: क्वार्ट्जले उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता प्रदर्शन गर्दछ, यसलाई उच्च तापमान प्लाज्मा वातावरणको सामना गर्न अनुमति दिँदै। यसले प्रक्रियाको कक्षमा एक समान तापमान कायम राख्न मद्दत गर्दछ, फिल्म गुण र स्थिरता सुनिश्चित गर्दै।

। सुख्खा ईचि।

भूमिका: सुख्खा मसीमा, ग्यास वितरण प्लेटले प्रतिक्रियाशील एन्टिंग ग्याँस (E.g, फ्लोरोरोलरबक्स, क्लोरीन) मा कमबिनमा)

विशिष्ट प्रयोगहरू:

● ecte एकरूपता: प्लेटले एक समान प्रवाह र ईच ग्यासहरूको एकाग्रता सुनिश्चित गर्दछ, जुन सम्पूर्ण वेफर पार गर्दछ सम्पूर्ण वेफर पार गर्दछ। यो उन्नत अर्धडौन्द्रकर्मीहरूको लागि आवश्यक सटीक ढाँचाहरू प्राप्त गर्नका लागि महत्वपूर्ण छ।

● वस्तुको प्रतिरोध: ECHE ग्यासहरूको कडा मेहनतीको गुणहरू टिकाऊ सामग्री आवश्यक छ। क्वार्ट्जको उच्च विकसित प्रतिरोधले स्नातको जीवनशक्तिलाई विस्तार गर्दछ र प्रक्रिया अवरोधहरूको जोखिम कम गर्दछ।

Wheg। वेफर सफाई

भूमिका: विशिष्ट वेफर सफाई प्रक्रियाहरूमा, क्वार्ट्ज ग्यास वितरण प्लेटहरू वर्षा र दूर दूरसकहरू हटाउनका लागि गर्भाशय सतह प्रदान गर्न प्रयोग गरिन्छ।

विशिष्ट प्रयोगहरू:

Solver सुकछिन सफाई: प्लेटले सुनिश्चित गर्दछ कि फर्म वेफरको प्रत्येक भागमा पुग्छ, पूर्ण र वर्दी सफाई प्रक्रिया सक्षम पार्दै।

● रासायनिक अनुकूलता: रसायन सफाई को एक विस्तृत श्रवणको साथ क्वार्ट्जको अनुकूलताले प्रतिक्रिया रोक्दछ र सफा प्रक्रियाको शुद्धता र प्रभावकारिता कायम गर्दछ।