ALD ग्रह परिक्रामक

व्यावसायिक निर्माता, VETEK SEMIMDUCOCOCACACTATE ले तपाईंलाई SIC लेट परमात आणविक तह निर्धारण गर्दछ।

एएलएल प्रक्रियालाई आणविक तह एपिटक्साइज पनि भनिन्छ। दिग्गेकानले कटौती-धारको विकास र उत्पादनको विकास र उत्पादन र निर्माणको विकास र उत्पादनको विकास र निर्माण कार्यलाई अग्रगामीको विकास र उत्पादन अग्रगामी गरे। यी नवीन परिसरलाई Ald प्रक्रियाको कडा आवश्यकता पूर्ण रूपमा पूर्ण रूपमा डिजाइन गरिएको छ र सब्सट्रेट भर एक समान ग्यास प्रवाह वितरण सुनिश्चित गर्न।

थप रूपमा, Veetcymicon ले उच्च-शुद्धता CVD SIC कोटिंगको बखत बन्नको बन्चरमा उच्च शुद्धता ग्यारेन्टी गर्दछ (शुद्धता 9999999999 95 95 95 95 9595%) यो उच्च वास्तविकता SIC कोटिंग मात्र प्रक्रिया मात्र सुधार हुँदैन, तर विभिन्न अनुप्रयोगहरूमा ALD प्रक्रियाको समग्र प्रदर्शन र दोहोरिने सुधार गर्दछ।

स्वयं विकसित CVD सिलिकन कार्बर्ड डिस्पोजिन (प्याटेन्टेन्ट टेक्नोलोजी) र कोटिंग प्रक्रिया प्याटेन्ट्स (जस्तै ढाँचा संयोजन स्क्वायरहरू), हाम्रो कारखानाले निम्न भ्रष्टाचार प्राप्त गर्यो: हाम्रो कारखानाले निम्न भयानकहरूलाई प्राप्त गर्दछ।

अनुकूलित सेवाहरू: ग्राहकहरुलाई ध्यान दिएर आयात गरिएको ग्राफिटी सामग्रीहरू निर्दिष्ट गर्न सहयोगीहरूलाई समर्थन गर्न सहयोग पुर्याउनुहोस् जस्तै विषालु कार्बन र एसजीएल कार्बन।

गुणस्तरीय प्रमाणीकरण: उत्पादनले अर्ध मानक टेस्ट बित्यो, र कण जल रेटिंग दर <0.01% छ, उन्नत प्रक्रिया आवश्यकताहरू 7nm भन्दा कम।

ALD टेक्नोलोजी पूर्वावलोकनका फाइदाहरू:

● सटीक मोटाई नियन्त्रण नियन्त्रण: सब्बरको साथ उप-नाननोमीट मोटाई हासिल गर्नुहोस्डिप्रेसन चक्रको नियन्त्रण गर्दै nt दोहोर्याउनुहोस्।

● उच्च तापमान प्रतिरोधी: यो 120000 भन्दा माथि उच्च-तापमान वातावरणमा धेरै लामो समयको लागि काम गर्न सक्दछ, उत्कृष्ट थर्मल श्रृंग प्रतिरोध र क्र्याकिंग वा पिलिंगको कुनै जोखिम। 

   कोटिंगको प्रतिलिपिको साथ थर्मल विस्तार गुबुभ, ग्रेफाइट्स सबमिट राम्रोसँग, वर्दी तातो क्षेत्र वितरण र सिलिकन वेफर विकृति सुनिश्चित गर्ने।

● सतह धुरा: उत्तम थ्रीडी कन्फ्युर्सियत र 100% चरण कभरेजले चिल्लो कोट सुनिश्चित गर्दछ जुन पूर्ण रूपमा प्रतिस्थापन पूर्ण रूपमा अनुसरण गर्दछ।

● संयय र प्लाज्मा erosion: SIC कोटिंग्स प्रभावकारी रूपमा हेलोजेन ग्यासको क्षयको प्रतिरोध गर्नुहोस् (जस्तै Cl₂, F₂) र प्लाज्मा, एसीडी र अन्य कठोर प्रक्रिया वातावरणको लागि उपयुक्त।

● व्यापक योग्यता: वेफरबाट वेफरहरूको बिभिन्न वस्तुहरूमा कोटेशन, संवेदनशील प्रतिष्ठानको लागि उपयुक्त।

Clorly अनुकूलन योग्य भौतिक गुणहरू: रिकर्ड्स, नाइट्रिड, धातुहरू आदि।

● व्यापक प्रक्रिया विन्डो: तापमान वा प्रिराकर भिन्नताहरूको लागि संभावना, उत्तम कोटिंग टेक्स्ट्रक्ट्रिक सम्बन्धको साथ ब्याच उत्पादन गर्न अनुकूल गर्नुहोस्।

आवेदन परिदृश्य:

1 अर्ध मन्टोक्टर निर्माण उपकरण

एपिट्याक्सरी: MOCVD प्रतिक्रिया गुहाको कोर क्यारियर को रूप मा, यो वेफर को एक समान कुटिंग सुनिश्चित गर्दछ र एपिट्याक्सली तहको गुणवत्ता सुधार गर्दछ।

ईचिंग र बलायन प्रक्रिया: सुख्खा एन्चे र आणविक तहगत तह जम्मा (एल्ड) उपकरणहरू, जसले उच्च-फ्रिक्वेन्सी प्लाज्मा बमवर्षक 101. मा प्रस्तुत गर्दछ।

2 फोटोविटल उद्योग

पोलिजिकल ईन्टोट: थर्मल फिल्ड समर्थन घटकको रूपमा, अशुद्धताहरूको साथ, पालीन सौर शुद्धता सुधार्नुहोस्, र दक्ष सौर्य सेल सेल उत्पादनलाई मद्दत गर्नुहोस्।

एक अग्रणी चिनियाँ एल्डेन ग्रह संसटन निर्माता निर्माणकर्ता र आपूर्तिकर्तालाई उन्नत पातलो फिल्म जम्मा सामग्रीहरू प्रदान गर्न प्रतिबद्ध छ। तपाईंको थप सोधपुछ स्वागत छ।

CVD SIC कोटिंगको आधारभूत भौतिक गुणहरू: