उद्योग समाचार

लगातार प्राविधिक प्रगति र गहन संयन्त्र अनुसन्धानको माध्यमबाट ACC-आकार हेटरथीफीक्सनीय टेक्नोलोजी मार्फत अर्धविरोधी उद्योगमा बढी महत्त्वपूर्ण भूमिका खेल्ने अपेक्षा गरिएको छ र उच्च प्रभावकारी इलेक्ट्रॉनिक उपकरणहरूको विकासलाई बढावा दिन सकिन्छ।

स्थायी एल्डियल एल्ल, spactially अलग परमाणु छेडिकर तह जम्मा। वेफर बिभिन्न पदहरू बीचको कदम चाल्दछ र प्रत्येक स्थितिमा विभिन्न प्रस्तावहरूको पर्दाफास हुन्छ। तलका फिगर परम्परागत एल्ड र स्थानान्तरण अलग नहुने Ald को तुलना हो।

हालसालै, जर्मन अनुसन्धान संस्थानको फ्रान्हेफोफर IISB IISB ले CVALUM कारोबार अनुभवी र विकासको विकास गर्यो जुन CVD डलर ड्रगमेन्ट समाधान भन्दा बढि छ, र व्यावसायिक गरिएको छ भने।

द्रुत प्राविधिक विकास, थ्रीडी मुलुकमा, उन्नत उत्पादन टेक्नोलोजीको महत्त्वपूर्ण प्रतिनिधिको रूपमा परम्परागत निर्माणको अनुहार परिवर्तन हुँदैछ। उपस्थितिको निरन्तर परिपक्वता र लागत, 3 डी मुद्रण टेक्नोलोजी, मेडिकल उत्पादन, र वास्तुकलाको डिजाइनजस्ता क्षेत्रहरूमा विस्तृत अनुप्रयोगको प्रशोधन देखाइएको छ र यी उद्योगहरूको नवीनता र विकासलाई बढावा दिएको छ।

एकल क्रिस्टल सामग्रीले मात्र विभिन्न अर्धचालक उपकरणहरूको बढ्दो उत्पादनको आवश्यकताहरू पूरा गर्न सक्दैन। 1959 को अन्त्यमा, एकल क्रिस्टल सामग्री वृद्धि प्रविधिको पातलो तह - epitaxial वृद्धि विकसित भएको थियो।

सिलिकन कार्थरोइड उच्च-तापमान, उच्च-फ्रिक्वेन्सी, उच्च-शक्ति र उच्च भोल्टेज उपकरणहरू बनाउनेको लागि एक आदर्श सामग्री हो। उत्पादन दक्षता सुधार गर्न र लागत कम गर्न, ठूलो आकारको सिलिकन कार्यसक्त सब्स्रेटहरूको तयारी एक महत्त्वपूर्ण विकास दिशा हो।