सिलिकन कार्थ्रेडले सेमीन्डुनिकल उद्योगलाई पावर र उच्च तापमान अनुप्रयोगहरूको लागि अनुच्छेद गर्दैछ, यसको व्यापक गुणहरूको साथ, एपिट्याक्सियल प्रत्यारोपणका लागि प्रलोभन कोटिंग्स को लागि।
उच्च शुद्धता: रासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD) द्वारा बढेको सिलिकन एपिटेक्सियल तहमा परम्परागत वेफरहरू भन्दा धेरै उच्च शुद्धता, राम्रो सतह समतलता र कम दोष घनत्व हुन्छ।
ठोस सिलिकन कार्थ्रोइड (SIC) सेलिन्डोडौटाक्टर्चमेन्टको निर्माणमा मुख्य सामग्रीहरू मध्ये एक भएको छ जुन यसको अद्वितीय भौतिक गुणहरूको कारण हो। निम्नलिखित आफ्नो भौतिक गुणहरूमा आधारित यसको फाइदा र व्यावहारिक मूल्यको विश्लेषण हो र अर्धवान्डुनिक उपकरणहरूमा आधारित व्यावहारिक अनुप्रयोगहरू (जस्तै वेगर क्यारियरहरू, धडकनहरू, एचसी।)।
हामी तपाईंलाई राम्रो ब्राउजिङ अनुभव प्रदान गर्न, साइट ट्राफिक विश्लेषण र सामग्री निजीकृत गर्न कुकीहरू प्रयोग गर्छौं। यो साइट प्रयोग गरेर, तपाईं कुकीहरूको हाम्रो प्रयोगमा सहमत हुनुहुन्छ।
गोपनीयता नीति