झरना sic ciramic प्लेट

झरना SIC सिरेमिक प्लेट एक पोवर संरचना सिरमिक सामग्री होसिलिकन कार्बइडमुख्य कम्पोनेन्टको रूपमा र एक विशेष धर्मीको प्रक्रियाको साथ संयुक्त। यसको पोर्जरिटी समायोज्य छ (सामान्यतया% 0% -700%), pore आकार वितरण, रासायनिक बाल जम्माता र अन्य क्षेत्रहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिएको छ।

र पोखरी SIC सिरममिक प्लेटहरूको बारेमा थप जानकारीको लागि, कृपया यो ब्लग जाँच गर्नुहोस्।

झरना SIC सिरेमिक डिस्कउत्कृष्ट भौतिक गुणहरू

- चरम उच्च तापमान प्रतिरोध:

SIC CIRRIMICECTICE को पग्लिंग पोइन्ट 20000 डिग्री सेल्सियस जत्तिकै उच्च छ, र यसले अझै पनि 1 rep00 डिग्री सेल्सिलना सिरराइक्स (लगभग सेमीन्डुन्डरकय प्रक्रियाहरूको लागि उपयुक्त छ।

● उत्कृष्ट थर्मल व्यवस्थापन प्रदर्शन:

Light उच्च थर्मल संकुचित: घन सेक्सको थर्मल संकुचित को 120 W / (m · k) हो। यद्यपि पोर्स्टिचर संरचना हल्का थर्मल संकुचित कम गर्दछ, यो अझै पनि धेरै सिमेन्टिकहरू भन्दा राम्रो छ र कुटिल अटम्प्लिकेसन समर्थन गर्दछ।

It कम थर्मल विस्तार गुणांक (40.0 × 10 ° C): उच्च तापमानमा कुनै विध्वंस, थर्मल तनावले गर्दा उपकरण विफलताबाट अलग रहने छैन।

● उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता

एसिड र एल्कोली कोर्रापिसन प्रतिरोध (विशेष गरी hf वातावरणमा उत्कृष्ट प्रतिरोध, उच्च तापमान अक्सीकरण प्रतिरोध, कठोर वातावरण जस्तै ECCING र सफा।

● राम्रो मेकाकिई को गुणहरू

L उच्च कठोरता (Muhs कठोरता .22, दोस्रो मात्र हीरामा दोस्रो पटक, कडा पोशाक प्रवेश गर्ने प्रतिरोध।

Ludge शक्तिले 30000--400 एमपीएसम्म पुग्न सक्छ, र प्वारे संरचना डिजाइनले दुबै हल्का र मेकानिकल शक्तिलाई ध्यानमा राख्छ।

● कार्यशील पार्यू संरचना

Light उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र: ग्यास प्रसार क्षमता बढावा, एक प्रतिक्रिया ग्यास वितरण प्लेटको रूपमा उपयुक्त।

Leplate को नियन्त्रण योग्य paginyistice: तरल पदार्थ प्रवेश र फिल्टरेशन प्रदर्शन, जस्तै CVD प्रक्रियामा वर्दी फिल्म गठन।

अर्धन्डोक्टौटामा निर्माणमा विशिष्ट भूमिका

● उच्च तापमान प्रक्रिया समर्थन र तातो इन्सुलेशन

एक वेफर समर्थन प्लेटको रूपमा, यो उच्च तापमान उपकरण (> 1200 डिग्री c) मा प्रयोग गरिएको छ जस्तै प्रसारण भौतानीय भट्टीहरू र उन्नत भण्डारहरू।

पोखिरह स्टोरमा दुबै इन्सुलेशन र समर्थन प्रकार्यहरू छन्, तातो घाटा कम गर्दै।

● समान ग्यास वितरण र प्रतिक्रिया नियन्त्रण

रासायनिक बाफ कस्था (CVD) उपकरणहरूमा, ग्यास वितरण प्लेटको रूपमा, पातलो फिल्म जम्माहरूको एकरूपता सुधार गर्न phores समान यातायात ग्याँसहरू (जस्तै Sih₄)।

सुख्खा एन्चिंगमा, पोसको संरचनाले प्लाज्मा वितरणलाई अपवाद गर्दछ र च्दन शुद्धता सुधार गर्दछ।

● इलेक्ट्रोस्टेटिक चक (ESC) कोर कम्पोनेन्ट्स

झाडाोस्टेटिक चक सबमिटरको रूपमा पोखरी मुिक प्रयोग गरिन्छ, जसले माइक्रोरोजर्सको माध्यमबाट भ्याकुम अय्यूबरेशन अपनाउँदछ, सही रूपमा वेधर फिक्स गर्दछ, र प्लाज्माको बस्तीमा प्रतिरोधी छ।

● संयमित-प्रतिरोधी घटकहरू

भिजेको ECCHing र सफाई उपकरणको सवारीको लागि प्रयोग गरिएको, यसले कडा एसिडहरू (जस्तै hnos₄), HONO₃) र को रूपमा कडा एल्कलिस (जस्तै अंकल) द्वारा प्रतिरोध गर्दछ (जस्तै कोल)।

● थर्मल क्षेत्रको समानता नियन्त्रण

एकल क्रिस्टल सिलिकन बृद्धि भट्टी (जस्तै Czochalski विधि), एक गर्मी शिल्ड वा समर्थन को रूप मा, यसको उच्च थर्मल स्थिरता को रूप मा एकरूप थर्मल स्थिरता को रूप मा एकरूप थर्मल स्थिरता को रूप मा एकरूप थर्मल स्थिरता को रूप मा एकरूप थर्मल स्थिरताहरु लाई एकरूप छ।

● फिल्टरेसन र शुद्धीकरण

पोखरी संरचनाले पैसाको काम रोक्न सक्दछ र अल्ट्रा-शुद्ध ग्यास / तरल डेलिभरी प्रणालीहरूमा प्रयोग हुने प्रक्रिया स्वच्छता सुनिश्चित गर्न प्रयोग गर्दछ।

परम्परागत सामग्री भन्दा बढी फाइदाहरू