प्राविधिक र समाधानहरू

प्राविधिक र समाधानहरू

01 Epitaxy र Etching प्रक्रियाहरूमा CVD SiC, TaC र ठोस SiC को प्रदर्शन सीमाहरू
05

01 Epitaxy र Etching प्रक्रियाहरूमा CVD SiC, TaC र ठोस SiC को प्रदर्शन सीमाहरू

सही CVD SiC, TaC कोटिंग वा ठोस SiC चयन गर्दा एपिटेक्सी/एचिङ लाइनहरूमा कण स्तरहरू र कम्पोनेन्ट लाइफटाइम प्रत्यक्ष रूपमा निर्धारण गर्दछ। यस लेखले तापमान, वातावरण र प्रक्रियाद्वारा स्पष्ट चयन सीमाहरू प्रदान गर्दछ, प्रमुख उपकरण प्रतिस्थापन समाधानहरू र मुख्य मेट्रिक्ससँग मेल खान्छ, तपाईंलाई छिटो निर्णय गर्न र जोखिम कम गर्न मद्दत गर्न।
थप हेर्नुहोस्
वाटर-गाइडेड लेजर टेक्नोलोजी: SiC सब्सट्रेटहरूको लागि प्रेसिजन माइक्रो-होल मेसिन
06

वाटर-गाइडेड लेजर टेक्नोलोजी: SiC सब्सट्रेटहरूको लागि प्रेसिजन माइक्रो-होल मेसिन

VeTek को पानी-निर्देशित लेजर टेक्नोलोजीले 2mm SiC सब्सट्रेटहरूमा कुनै टेपर, न्यूनतम HAZ र अर्धचालक अनुप्रयोगहरूको लागि उच्च उपज बिना एकसमान Φ0.15mm थ्रु-होलहरू प्रदान गर्दछ भनेर पत्ता लगाउनुहोस्।
थप हेर्नुहोस्
VETEK-AMAT होलो लिफ्ट पिन समाधान: CVD SiC कोटिंगको साथ उच्च-शुद्ध ग्रेफाइट सब्सट्रेट
07

VETEK-AMAT होलो लिफ्ट पिन समाधान: CVD SiC कोटिंगको साथ उच्च-शुद्ध ग्रेफाइट सब्सट्रेट

अर्धचालक उपकरण खोक्रो लिफ्ट पिनहरूको लागि सबैभन्दा चुनौतीपूर्ण प्राविधिक मुद्दा बाहिरी सतह कोटिंग होइन, तर खाली संरचनाको भित्री पर्खालमा स्थिर र एकसमान CVD कोटिंग प्राप्त गर्नु हो। भित्री पर्खाल कोटिंग एकरूपता नियन्त्रण देखि आन्तरिक बोर सफाई आश्वासन सम्म, प्रत्येक प्रक्रिया चरणले सीधा वेफर उत्पादनलाई असर गर्छ। यस लेखले खोक्रो लिफ्ट पिन भित्री-भित्ता कोटिंग र प्रमुख प्राविधिक मार्गहरूको मुख्य चुनौतीहरूको विश्लेषण गर्दछ।
थप हेर्नुहोस्
X
हामी तपाईंलाई राम्रो ब्राउजिङ अनुभव प्रदान गर्न, साइट ट्राफिक विश्लेषण र सामग्री निजीकृत गर्न कुकीहरू प्रयोग गर्छौं। यो साइट प्रयोग गरेर, तपाईं कुकीहरूको हाम्रो प्रयोगमा सहमत हुनुहुन्छ। गोपनीयता नीति
अस्वीकार गर्नुहोस्स्वीकार गर्नुहोस्