उच्च शुद्धता ग्रेफाइट नरम महसुस

थर्मल फिल्ड इन्भिल इन्भिसलेशन कार्बन सामग्री अनुप्रयोग पृष्ठभूमि

थर्मल फिल्ड इन्सुलेशन कार्बन सामग्रीहरू थर्मल क्षेत्रको कार्यात्मक अवधारणाहरूको परिधिमा र विभिन्न फर्मुसी निकाय भित्रको रूपमा सम्पन्न हुन्छन् र थर्मल इन्सुलेशन र थर्मल इन्सुलेशन निर्माण गर्न प्रयोग गरिन्छ। यद्यपि कार्बन फाइबरसँग उच्च थर्मल संकुचित छ, कार्बन फाइबर सामग्री एक ढीला र दलिया कार्बन फाइबरर हो। राक्षहरूले महसुस गरेको शरीरको आकार कायम राख्न फाइबर घर्षणमा निर्भर गर्दछ। फाइबरहरू सँगै ओभरलेपपिल गरिन्छ, जुन पोइन्ट सम्पर्क हो, जसले ठोस गर्मी चाल मार्गको माध्यमबाट हस्तान्तरण गर्यो। विशेष गरी उच्च-तापमान फार्मल क्षेत्रहरूमा (जस्तै 80000)), विकिरण तीव्रता बढ्छ, र थर्मल विकिरण तातो स्थानान्तरणको मुख्य रूप हुन्छ। विकिरण छालहरू निरन्तर फाइबरको बीचमा प्रतिबिम्बित हुन्छन् र महसुस गरिएको शरीर भित्र झुण्ड्याइन्छ, जसले थर्मल इन्सुलेशन को प्रभाव प्राप्त गर्दै।

प्राय: प्रयोग गरिएको थर्मल इन्सुलेशन सामग्री उच्च शुद्धता ग्राफ्र्याइट नरम बनाउँदछ विभिन्न प्रकारहरूमा। उच्च शुद्धता Grafite नरम महसुस पातलो फाइबर को बनेको छ। नरम उच्च शुद्धता ग्रेफाइट नरम महसुस अपेक्षाकृत पातलो पानाहरूमा बुनेको छ, त्यसपछि इच्छित आकारमा काट्नुहोस् र व्यावहारिक त्रिज्यामा झुकाव।

उच्च शुद्धता Grafite नरम महत्व वर्गीकरण

विभिन्न कच्चा मालका अनुसार प्रयोग गरिएको, उच्च शुद्धता ग्राफेट नरम महसुसलाई तीन श्रेणीमा विभाजन गर्न सकिन्छ: पान-आधारित, भिसारेका र डामरा-आधारित-आधारित:

प्यान-आधारित र डामर-आधारित सामग्रीको तुलनामा, भिसाप्रपाषित कार्बन सामग्रीहरू थर्मल इन्सुलेशनमा राम्रो प्रदर्शन हुन्छ। त्यसकारण, भिसाप्रसादमा आधारित उच्च शुद्धता ग्राफेटिटी ग्रेफाइट नरम महसुस पनि अर्धवान्डुनिक र फोटोविद्रिक फिर्मल फिल्ड इन्भिडले भ्रामक कार्बन सामग्रीको लागि मूलधारको विकल्प हो।

PVT विधिमा उच्च शुद्धता ग्राफेट ग्रेफाइट नरम को उपयोग

PVT विधि सामान्यतया मुकीक्सन कार्डल एकल क्रिस्टल उत्पादन गर्न प्रयोग गरिन्छ। SIC पाउडर ग्राफिइट क्रूस को तल भरिएको छ, र sic को बीस्ट क्रिस्टल कच्चा मामला को साथ एक निश्चित दूरी को साथ जोडिएको छ, र त्यसपछि Grafity क्रूस मा एक समग्रमा हरिफेट शरीर मा राखिएको छ। बाह्य उच्च शुद्धता ग्राफेट्स नरम महसुस गरेर, अनुमानको उच्च तापमान क्षेत्र मा राखिएको छ, र SIC बीज क्रिस्टल यूएसएमटी कम तापमान क्षेत्र मा छ।

यस प्रक्रियामा, क्रूसिबल र वरपर थर्मल इन्सुज सामग्रीको तुलनामा थर्मल क्षेत्रको क्षेत्र SIC एकल क्रिस्टल बृद्धिको लागि सबैभन्दा महत्त्वपूर्ण क्षेत्र हो। Crystal growth chamber can reach a very high temperature (up to 3000℃), at this high temperature, VeTek semiconductor high purity graphite soft felt can withstand such high temperature, and at such high temperature does not react with SiC sublimation, with excellent thermal insulation performance, thermal insulation performance to ensure the growth of high-quality SiC crystal.

VETEK SEMIMonducort उच्च शुद्धता Grafite नरम महसुस एक अपोइन्टेशन भौताहरु मा एक अपरिहार्य इन्सुलेसन सामग्री हो। कुराकानी भौताहरूले गर्दा काम गर्दा धेरै तापले उत्पन्न गर्दछ, र उच्च शुद्धता ग्राफेट नरमसँग कम थर्मीय संकुचित र कम विशिष्टता छ, जसले भौतिक दक्षता सुधार्न सक्छ र भट्टीमा भट्टीको निरंकुश दक्षता सुनिश्चित गर्दछ। एकै साथ उच्च शुद्धता अंकुटी सफ्ट असन्तुष्टले यस ब्याक्वायर भुटेको भाँडोमा एक भूमिका खेल्छ र आगोको चुहावटलाई भट्टीमा लगाउँदछ।

VETEK SETEK COIMDONTUCER उच्च शुद्धता उच्च शुद्धता ग्राफेट नरम महसुस

VETEK SEMIMonducter उच्च शुद्धता उच्च शुद्धता ग्रेफाइट नरम महसुस