SiC Epitaxy प्रक्रिया

ट्यान्टलम कार्बाइड लेपित पोरस ग्रेफाइट अर्धचालक प्रशोधन प्रक्रियामा, विशेष गरी SIC क्रिस्टल वृद्धि प्रक्रियामा एक अपरिहार्य उत्पादन हो। निरन्तर आर एन्ड डी लगानी र प्रविधि अपग्रेड पछि, VeTek सेमीकन्डक्टरको TaC कोटेड पोरस ग्रेफाइट उत्पादनको गुणस्तरले युरोपेली र अमेरिकी ग्राहकहरुबाट उच्च प्रशंसा जितेको छ। तपाईको थप परामर्शमा स्वागत छ।

CVD TaC कोटिंग प्लानेटरी SiC epitaxial susceptor MOCVD ग्रहीय रिएक्टरको मुख्य घटक मध्ये एक हो। CVD TaC कोटिंग प्लानेटरी SiC epitaxial susceptor मार्फत, ठूलो डिस्क परिक्रमा र सानो डिस्क घुमाउँछ, र तेर्सो प्रवाह मोडेल बहु-चिप मेसिनहरूमा विस्तार गरिएको छ, ताकि यसले उच्च-गुणस्तरको एपिटेक्सियल तरंगदैर्ध्य एकरूपता व्यवस्थापन र एकलको दोष अनुकूलन दुवै छ। -चिप मेसिन र बहु-चिप को उत्पादन लागत लाभ machines.VeTek सेमीकन्डक्टरले ग्राहकहरूलाई उच्च अनुकूलित CVD TaC कोटिंग ग्रहहरू SiC epitaxial susceptor प्रदान गर्न सक्छ। यदि तपाईं पनि Aixtron जस्तै ग्रह MOCVD फर्नेस बनाउन चाहनुहुन्छ भने, हामीलाई आउनुहोस्!

Veetchag अर्धोन्डरक एक चिनियाँ कम्पनी हो जुन विश्व-वर्ग निर्माता हो र Gan EPITAXYSY PSECTARE को आपूर्तिकर्ता हो। हामी सेनीन्डुन्डरकय उद्योगमा काम गरिरहेका छौं जस्तै सिलिकन कार्बर्ड कोब्रा कोब्रा कोट र गोन एपिटक्साएक्साएक्साएक्साक्स लामो समयदेखि। हामी तपाईंलाई उत्कृष्ट उत्पादनहरू र अनुकूल मूल्य प्रदान गर्न सक्छौं। Veetce Semiconductuctuctore को लागी तपाइँको दीर्घकालीन पार्टनर बन्न अगाडि हेर्छ।

VeTek सेमीकन्डक्टर TaC लेपित वेफर ससेप्टर एक ग्रेफाइट ट्रे हो जुन ट्यान्टालम कार्बाइडले सिलिकन कार्बाइड एपिटेक्सियल वृद्धिको लागि वेफरको गुणस्तर र कार्यसम्पादन सुधार गर्नको लागि लेपित छ। VeTek उत्कृष्ट SiC epitaxy परिणामहरू र विस्तारित ससेप्टर जीवन सुनिश्चित गर्न यसको उन्नत कोटिंग टेक्नोलोजी र टिकाऊ समाधानहरूको कारण चयन गरिएको छ, तपाईंको थप सोधपुछलाई स्वागत छ।

TAC कोटिंग गाईड मार्गनिर्देशन निर्माताका रूपमा चीनका उत्पादनहरू, VETEK SETEC CATIMDATUTER TAC लेडपोर्ट गाइड डेलिभरीहरू, एपिमन्डोरक्टर्स एपिट्याजिकल बृद्धिमा सही र स्थिर ग्यास डेलिभरीहरू हुन्। हामीलाई परामर्श गर्न स्वागत छ।

VETEK SEMIMonducore एक पेशेवर निर्माता र चीनमा पोवर टन्टलनाम उत्पादनहरूको नेता हो। झाली Tantalum carebide सामान्यतया रासायनिक बाफ (CVD) विधि (CVD) विधि बनाउँदछ, यसको खरको आकार र वितरणको सटीक नियन्त्रण हो, र उच्च तापमान चरम वातावरणको लागि समर्पित सामग्री उपकरण हो। तपाईंको थप परामर्श स्वागत गर्नुहोस्।