Tac लेपित ग्राफेटेड समर्थन

तपाईंलाई भर्खरको बिक्री, कम मूल्य, र उच्च-उच्च-गुणवत्ताको Tac लेपित ग्राफेटिटी परिसरहरू खरीद गर्न तपाईंलाई हाम्रो कारखाना अनुभवी अर्धकर्मीमा आउन स्वागत छ। हामी तपाइँसँग सहयोग गर्न तत्पर छौं।

Tantalum carberide crailmic सामग्री ℃ 88800 ℃ सम्म, यौगिक प्रतिष्ठान को एक उच्च तटरी स्थिरता को साथै स्थिर प्रदर्शन गर्न सक्छ, राम्रो रसायन विरोधाभास प्रतिरोध, राम्रो रसायन र कार्बन सामग्री र अन्य विशेषताहरूको साथ मेकानिकल अनुकूलता, यसलाई एक आदर्श ग्रेफाइट सब्सटिक कोटिंग सामग्री बनाउँदै। Tantalum carebide Colding ले तातो प्रयोग को वातावरण, हाइड्रोजन वा सिलिकन बाफ र परफेडिटीहरु को सेवा जीवन को लागी विस्तार गर्न सक्छ, र ग्राफिट मा अशुद्धताहरु को प्रवासहरु लाई जोड दिन सक्छ, उपस्थिति र क्रिस्टल बृद्धिको गुणस्तर सुनिश्चित गर्दै .यो मुख्यतया भिजेको सिरेमिक प्रक्रियामा प्रयोग गरिन्छ।

रासायनिक बाफ कप्तान (CVD) लेन्टुमको सतहमा कोटिंगको लागि सब भन्दा परिपक्व र इष्टतम तयारी विधि हो।

TAC लेपेट ग्राफ्त्ट परिसरका लागि CVD TAC कोटिंग विधि:

कोटिंग प्रक्रियाले TaCl5 र propylene क्रमशः कार्बन स्रोत र ट्यान्टालम स्रोतको रूपमा प्रयोग गर्दछ, र ट्यान्टालम पेन्टाक्लोराइड वाष्प उच्च तापक्रम ग्यासीकरण पछि प्रतिक्रिया कक्षमा ल्याउन क्यारियर ग्यासको रूपमा आर्गन। लक्षित तापक्रम र दबाब अन्तर्गत, अग्रगामी सामग्रीको वाष्प ग्रेफाइट भागको सतहमा सोसिन्छ, र कार्बन स्रोत र ट्यान्टलम स्रोतको विघटन र संयोजन जस्ता जटिल रासायनिक प्रतिक्रियाहरूको श्रृंखला हुन्छ। एकै समयमा, पूर्ववर्तीको प्रसार र उप-उत्पादनहरूको desorption जस्ता सतह प्रतिक्रियाहरूको श्रृंखला पनि समावेश छ। अन्तमा, ग्रेफाइट भागको सतहमा एक बाक्लो सुरक्षात्मक तह बनाइन्छ, जसले ग्रेफाइट भागलाई चरम वातावरणीय अवस्थाहरूमा स्थिर हुनबाट जोगाउँछ। ग्रेफाइट सामग्रीको अनुप्रयोग परिदृश्यहरू उल्लेखनीय रूपमा विस्तार गरिएको छ।

TaC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टरको उत्पादन प्यारामिटर:

उत्पादन पसल:

अर्धचालक चिप epitaxy उद्योग श्रृंखला को सिंहावलोकन: