CVD SIC लेपित वेरेल सॉफेप्टर

अर्धोन्डरकन निर्माणमा, उपस्थितिमा एक नाप्न उत्पादनमा एक महत्वपूर्ण कदम हो, र वेफर परिसर्पति परिशिष्ट, मुख्य रूपमा एपिट्याजिकल लेयर बृद्धि गर्दछ। उद्योगको बढ्दो मागलाई सम्बोधन गर्न, उच्च-स्थिरता सामग्रीहरू, VETEKSCAMINGATION WERFEATIONGE (6 ", 12"), यसलाई चीन र पछाडि उन्नत उपदेशित समाधानको रूपमा प्रस्तुत गर्दछ।

Ⅰ कोर फाइदाहरू

1 उद्योग-अग्रणी शुद्धता

सिलिकन कार्थ्रेड (SIC) कोटिंग, रसायन वाष्प (CVD) को माध्यमबाट, ≤100ptb (E10 मान्ट्रेट) द्वारा प्रमाणित गरिएको प्लाज्म मास स्पेशल मापेटी)। यस अल्ट्रा-उच्च शुद्धता इष्टेरेक्सियल बृद्धिको क्रममा दूषित जोखिमहरू कम गर्दछ, Ganalium नाइट्रिड (सीआईसी) फराकिलो ब्यान्डविड निर्माणको लागि महत्वपूर्ण क्रिस्टल गुणस्तर सुनिश्चित गर्दछ।

2 असाधारण उच्च-तापमान प्रतिरोध र रासायनिक टिरियरेशन

CVD SIC कोटिंगले उत्कृष्ट शारीरिक र रासायनिक स्थिरता प्रदान गर्दछ:

उच्च-तापमान सहनशीलता: डिमिनेसन वा विवाद बिना 1 1600 डिग्री सेल्सियस सम्म स्थिर अपरेशन;

प्रतिरोधादारी प्रतिरोध: आक्रामक एपिटअरेक्टिअपियल प्रक्रिया ग्यासहरू (उदाहरण, H0, HCL, HCL, HCL, H.G), सेवा जीवन विस्तार गर्दै;

कम थर्मल तनाव: कूल वेफरहरूको थर्मल विस्तार गुणांकसँग मेल खान्छ, वागृह जोखिमहरू कम गर्दै।

3। मुख्य-निर्माण लाइनहरूको लागि पूर्ण आकारको अनुकूलता

--इन्च,-इन्च, र 12 इन्च कन्फिगरेसनहरूमा उपलब्ध छ, स्क्स्टेन्सिसमेलहरू, तेस्रो-पुस्ता सेमीन्डुन्डन्तीहरू, पावर उपकरणहरू, र आरएफ चिप्स सहित यसको सटीक-ईन्जिनियर गरिएको सतहले अमीटा र अन्य मुख्यधारागत एपिटाइक्नियल रिपोर्टरहरूको साथ समुद्री सतह समायोजन सुनिश्चित गर्दछ, द्रुत उत्पादन लाइन अपग्रेड सक्षम हुँदै।

। स्थानीयकृत पुन: उत्पादन सफलता

प्रोफेरिटरी CVD र पोस्ट-प्रशोधन प्रविधिले उच्च-शुद्धता अनुमानित परीक्षकलाई भ broke ्केत गरेको छ, घरेलु र ग्लोबल ग्राहकहरूलाई एक लागत प्रभावी, द्रुत रूपमा समर्थित छ।

Ⅱ प्राविधिक उत्कृष्टता

● प्रेशल CVD प्रक्रिया: इष्टतम जम्मा प्यारामिटरहरू (तापक्रम, ग्यास प्रवाह) वर्दर्य मोटाई (विचलन ≤3%) को साथ घन, विचलन out3%) लाई घन, प्रवासी ≤≤ questemply।

● सफारूमरी निर्माण: सम्पूर्ण उत्पादन प्रक्रिया, कोटिंगको सब्जीर तयारीबाट, कक्षा 100 सफारूक्षमा सञ्चालन गरिएको छ, अर्धोन्डरकक्टर-ग्रेड सफाई मानकहरूको बैठक;

● अनुकूलकरण: मिलाएर कोटिंग मोटाई, सतह करुणा (R ≤ 0. ≤ 0.5μm), र पूर्व सम्पन्न बुढेसकालमा उपकरण प्रतिष्ठानको गति बढाउन।

Ⅲ अनुप्रयोगहरू र ग्राहक लाभहरू

● तेस्रो पुस्ता दिवसीय संरक्षक एपिट्याक्सक्स: SIC र gan को MCVVD / MBE वृद्धिको लागि आदर्श, उपकरणलाई ब्रेकडडडडडडडडडडडल र स्विच गर्ने क्षमताको बृद्धि गर्न;

● सिलिकन-आधारित EPITAXAXY: उच्च-भोल्टेज IGBTS, सेन्सर, र अन्य सिलिकन उपकरणहरूको लागि लेयर एकरूपता सुधार्छ;

● मूल्य डेलिभर गरियो:

एपिटाइक्रिप्टियल दोषहरू कम गर्दछ, चिप उपज बढाउँदै;

कम मर्मत फ्रिक्वेन्सी र स्वामित्वको कुल लागत;

सेमीन्डुनिक उपकरण र सामग्रीका लागि आपूर्ति श्रृंखलालाई तीब्रता प्रदान गर्दछ।

चीनमा उच्च प्रतियोगितामा अग्रगामीको रूपमा हामी कटौती-किनार प्रविधिको माध्यमबाट सेमिन्डुकोक्टर निर्माण गर्न प्रतिबद्ध छौं। हाम्रा समाधानहरू दुबै नयाँ उत्पादन लाइनहरू र लिगेसी उपकरण retrofities, अनमोर्ट गरिएको गुणवत्ता र दक्षताका साथ एपिटाइक्रिप्टियल प्रक्रियाहरूको लागि भरपर्दो प्रदर्शन सुनिश्चित गर्दछ।

CVD SIC कोटिंगको आधारभूत भौतिक गुणहरू