CVD SIC कोटिंग ब्यारेल परिप्रेशक

एपिटक्समा वृद्धि एकल क्रिस्टल सबमिटरमा एकल क्रिस्टल फिल्म (एकल क्रिस्टल लेयरी) बढेको छ (एकल क्रिस्टल लेयर)। यो एकल क्रिस्टल फिल्मलाई एक एल्लायर भनिन्छ। जब एपिलायर र सब्सट्रे भनेको समान सामग्रीबाट बनेको हुन्छ, यसलाई होमफाइटाटासियल वृद्धि भनिन्छ; जब तिनीहरू बिभिन्न सामग्रीहरूबाट बनेका हुन्छन्, यसलाई हेटरफिटटाइटियल बृद्धि भनिन्छ।

एपिट्याजिकल प्रतिक्रिया कोठाको संरचना अनुसार त्यहाँ दुई प्रकारका छन्: तेर्सो र ठाडो। ठाडो एपिट्याजिकल भुटेर सञ्चालनको क्रममा निरन्तर रूपमा सैन्य रूपमा सैन्य रूपमा सैन्य रूपमा सञ्चालन हुन्छ, त्यसैले यसको राम्रो उत्पादन भोल्युम ब्यारेड प्रकारका ऑप्टिचरल भौता हो। र उपधारा अर्धविक्रेता एपियका लागि अनुभवी कोटेड ग्रेफाइट ब्यारेट ब्यारेट विज्ञ हो।

एपिटाइक्सल बृद्धि उपकरणमा अनुमानित ग्राफेड ब्यालफइट ब्यारेप्टर टेफिटेन्डरहरू बृद्धि प्रक्रियाको क्रममा युद्धफूल जाँच गर्न प्रयोग गरिन्छ। वेफर ब्यारेल ऑनर प्रकार संसत्यरमा राखिएको छ। उत्पादन प्रक्रिया अगाडि बढ्दै जाँदा, सशोतकर वेफरलाई समान रूपमा घुमाउँदछ, जबकि वेफर सतह प्रतिक्रिया ग्यासको प्रवाहको आधारमा हुन्छ, अन्ततः एक समान इपिटिकल वृद्धि प्राप्त गर्दछ।

CVD SIC कोटिंग ब्यारेल र्यायरेर XSSSTRECECMENTORY

Atoraxice बृद्धि भट्टी एक क्षतिग्रस्त तापक्रम वातावरण हो मौरिक ग्यासहरु संग भरिएको। यस्तो कठोर वातावरणलाई पार गर्न, अनुभवी अर्धवार्ताले CVD विधि मार्फत ग्राफिटी ब्यारेल सूटवादको एक तह थपे, यसैले एक अनुभवी ग्राफेट ब्यारेट ब्यारेट ब्यारेलक्शक आकर्षक प्राप्त गर्दछ

संरचनात्मक सुविधाहरू:

●  एक समान तापमान वितरण: ब्यारेल आकारको संरचनाले अधिक मात्रामा तातो वितरण गर्न सक्दछ र तनाव वा वेफरको विकृतिबाट अलग रहन सक्दछ स्थानीय पूर्वाग्रह वा चिसोको कारण।

●  एयरफ्लो अशान्ति कम गर्नुहोस्: ब्यारेल-आकारको सशवरणकर्ताको डिजाईनले प्रतिक्रिया कोठामा एयरफोलो वितरणलाई अनुकूलित गर्न सक्दछ, वेफरको सतहमा सहजै प्रवाह गर्न अनुमति दिन्छ, यसले फ्ल्याट र वर्दी एपिट्याजिकल लेयर उत्पन्न गर्न मद्दत गर्दछ।

●  परिमार्जन संयन्त्र: ब्यारेल-आकारका सशक्त संशोधनकको परिसंघन संयन्त्रले एपिट्याजिकल तहका सामग्री सम्बद्धता र भौतिक गुणहरू सुधार गर्दछ।

●  ठूलो-पैमाने उत्पादन: ब्यारेल-आकारको सशस्त्र मात्राले यसको संरचनात्मक स्थिरता कायम राख्न सक्दछ, जुन 200 मिमी वा 30000 मिमी वेफरहरू, जुन ठूलो मात्रामा जन उत्पादनको लागि उपयुक्त छ।

VETEK SEMIMDONTUCER CVD SVD BVD ब्यारेल प्रकार क्क्सेप्टर उच्च-शुद्धता ग्राफिट र CVD SIC कोटिंगको लागि मिलेर बनेको छ जसले सरोकार ग्यास र स्थिर यांत्रिक मेकानिकल समर्थन गर्दछ। यो सुनिश्चित गर्नुहोस् कि वेफरलाई समानता दिइन्छ र सटीक एपिट्याजिकल वृद्धि प्राप्त गर्दछ।

CVD SIC कोटिंगको आधारभूत भौतिक गुणहरू

CVD SIC कोटिंगको आधारभूत भौतिक गुणहरू
सम्पति	विशिष्ट मान
क्रिस्टल संरचना	एफसीसी β चरण पोलीसीस्टलस्टल (111) उन्मुख
घनता	2.21 g / cm³
कडा	20000 वटा वारासरहरु कठोरता (500G लोड)
बोली	2 ~ 10mm
रासायनिक शुद्धता	999.99999995 %%
तटनी क्षमता	60400 · KG-1· K-1
Sublline तापमान	2 ℃00
लचिलो शक्ति	Man1 man MPA RT 4-पोइन्ट
युवाको मोड्युलस	4300 gpa 4tt बँदे 1 1300 ℃
थर्मल संकुचितता	300W-1· K-1
थर्मल विस्तार (cte)	5.5 × 10-6K-1

VETEK SEMIMDONTUCER CVD SVD SIC CARL CARL रिक प्रकारहरू सशक्त