उत्पादनहरू

Veteksemicon SiC लेपित एपिटेक्सियल रिएक्टर च्याम्बर अर्धचालक एपिटेक्सियल वृद्धि प्रक्रियाहरूको माग गर्नको लागि डिजाइन गरिएको मुख्य घटक हो। उन्नत रासायनिक वाष्प निक्षेप (CVD) को उपयोग गर्दै, यो उत्पादनले उच्च-शक्तिको ग्रेफाइट सब्सट्रेटमा बाक्लो, उच्च-शुद्धता SiC कोटिंग बनाउँछ, परिणामस्वरूप उच्च-तापमान स्थिरता र जंग प्रतिरोध। यसले प्रभावकारी रूपमा उच्च-तापमान प्रक्रिया वातावरणमा रिएक्टेन्ट ग्यासहरूको संक्षारक प्रभावहरूको प्रतिरोध गर्दछ, महत्त्वपूर्ण रूपमा कण प्रदूषणलाई दमन गर्दछ, लगातार एपिटेक्सियल सामग्रीको गुणस्तर र उच्च उपज सुनिश्चित गर्दछ, र प्रतिक्रिया कक्षको मर्मत चक्र र जीवनकाललाई पर्याप्त रूपमा विस्तार गर्दछ। यो SiC र GaN जस्ता वाइड-ब्यान्डग्याप अर्धचालकहरूको निर्माण दक्षता र विश्वसनीयता सुधार गर्नको लागि एक प्रमुख विकल्प हो।

Veteksemicon बाट सिलिकन क्यासेट डुङ्गा एक सटीक-इन्जिनियर गरिएको वेफर वाहक हो जुन विशेष रूपमा उच्च-तापमान अर्धचालक फर्नेस अनुप्रयोगहरूको लागि विकसित गरिएको हो, जसमा अक्सिडेशन, डिफ्युजन, ड्राइभ-इन, र एनिलिङ समावेश छ। अल्ट्रा-उच्च-शुद्धता सिलिकनबाट निर्मित र उन्नत प्रदूषण-नियन्त्रण मापदण्डहरूमा समाप्त भयो, यसले थर्मल रूपमा स्थिर, रासायनिक रूपमा अक्रिय प्लेटफर्म प्रदान गर्दछ जसले सिलिकन वेफर्सको गुणहरूसँग नजिकबाट मेल खान्छ। यो पङ्क्तिबद्धताले थर्मल तनावलाई कम गर्छ, स्लिप र दोष निर्माणलाई कम गर्छ, र ब्याचमा असाधारण रूपमा समान ताप वितरण सुनिश्चित गर्दछ।

सिलिकन कार्बाइड epitaxial वृद्धि को कोर प्रक्रिया मा, Veteksemicon बुझ्छ कि ससेप्टर प्रदर्शन सीधा epitaxial तह को गुणवत्ता र उत्पादन दक्षता निर्धारण गर्दछ। हाम्रो उच्च-शुद्धता EPI ससेप्टरहरू, विशेष रूपमा SiC क्षेत्रको लागि डिजाइन गरिएको, एक विशेष ग्रेफाइट सब्सट्रेट र बाक्लो CVD SiC कोटिंग प्रयोग गर्दछ। तिनीहरूको उच्च थर्मल स्थिरता, उत्कृष्ट जंग प्रतिरोध, र अत्यन्त कम कण उत्पादन दरको साथ, तिनीहरूले कठोर उच्च-तापमान प्रक्रिया वातावरणमा पनि ग्राहकहरूको लागि अतुलनीय मोटाई र डोपिङ एकरूपता सुनिश्चित गर्दछ। Veteksemicon छनौट गर्नु भनेको तपाईको उन्नत अर्धचालक निर्माण प्रक्रियाहरूको लागि विश्वसनीयता र प्रदर्शनको आधारशिला छनोट गर्नु हो।

ASM को लागि Veteksemicon SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर अर्धचालक एपिटाक्सियल प्रक्रियाहरूमा कोर क्यारियर कम्पोनेन्ट हो। यस उत्पादनले हाम्रो स्वामित्वको पाइरोलाइटिक सिलिकन कार्बाइड कोटिंग टेक्नोलोजी र सटीक मेसिन प्रक्रियाहरू उच्च-तापमान र संक्षारक प्रक्रिया वातावरणमा उत्कृष्ट प्रदर्शन र अल्ट्रा-लामो आयु सुनिश्चित गर्न प्रयोग गर्दछ। हामी सब्सट्रेट शुद्धता, थर्मल स्थिरता, र स्थिरता मा epitaxial प्रक्रियाहरु को कडा आवश्यकताहरु लाई गहिरो बुझ्छौं, र समग्र उपकरण प्रदर्शन बृद्धि गर्ने स्थिर, भरपर्दो समाधान संग ग्राहकहरु प्रदान गर्न प्रतिबद्ध छ।

Veteksemicon अर्धचालक-ग्रेड क्वार्ट्ज क्रुसिबलहरू Czochralski एकल क्रिस्टल वृद्धि प्रक्रियामा प्रमुख उपभोग्य वस्तुहरू हुन्। हाम्रो मुख्य फोकसको रूपमा चरम शुद्धता र उच्च थर्मल स्थिरताको साथ, हामी उच्च तापक्रम र उच्च दबाव वातावरण अन्तर्गत स्थिर प्रदर्शन र क्रिस्टलाइजेसनमा उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदर्शन गर्ने उच्च गुणस्तरका उत्पादनहरू प्रदान गर्न प्रतिबद्ध छौं। यसले स्रोतबाट क्रिस्टल रडहरूको गुणस्तर सुनिश्चित गर्दछ, अर्धचालक सिलिकन वेफर निर्माणलाई उच्च उत्पादन र राम्रो लागत-प्रभावकारिता प्राप्त गर्न मद्दत गर्दछ।

Veteksemicon फोकस रिंग विशेष गरी सेमीकन्डक्टर एचिंग उपकरणहरू, विशेष गरी SiC नक्काशी अनुप्रयोगहरूको मागको लागि डिजाइन गरिएको हो। इलेक्ट्रोस्टेटिक चक (ESC) वरिपरि माउन्ट गरिएको, वेफरको नजिकमा, यसको प्राथमिक कार्य भनेको प्रतिक्रिया कक्ष भित्र विद्युत चुम्बकीय क्षेत्र वितरणलाई अनुकूलन गर्नु हो, सम्पूर्ण वेफर सतहमा एकसमान र केन्द्रित प्लाज्मा कार्य सुनिश्चित गर्दै। उच्च प्रदर्शन फोकस रिंगले नक्काशी दर एकरूपतालाई उल्लेखनीय रूपमा सुधार गर्दछ र किनारा प्रभावहरू घटाउँछ, सीधा उत्पादन उपज र उत्पादन दक्षता बढाउँछ।