CVD सिलिकन कार्बाइड (SiC) लेपित RTP ससेप्टर

सुविधाहरू

• थर्मा एकरूपता - सामग्रीको उच्च थर्मल डिफ्युसिभिटीले दोहोर्याउन मिल्ने वेफर तापक्रम प्रोफाइलहरूलाई समर्थन गर्दै द्रुत, स्थानिय रूपमा समान ताप स्थानान्तरण सक्षम गर्दछ।
• उच्च शुद्धता स्तर - CVD SiC कोटिंगले 99.99995% को शुद्धता प्राप्त गर्दछ, प्रभावकारी रूपमा महत्वपूर्ण प्रक्रिया चरणहरूमा मोबाइल आयन र धातु प्रदूषण जोखिमहरू कम गर्दछ।
• रासायनिक स्थायित्व - कोटिंगले उच्च तापक्रम अन्तर्गत हलोजन-आधारित ग्यासहरू सहित संक्षारक प्रजातिहरूको लागि कडा प्रतिरोध प्रदर्शन गर्दछ। विस्तारित सेवा अन्तरालहरू - परिष्कृत अक्सिडेशन र पहिरन प्रतिरोधले कम प्रतिस्थापन र कम उपकरण डाउनटाइममा अनुवाद गर्दछ।
• डिजाइन लचिलोपन - आयाम र कन्फिगरेसनहरू विशिष्ट RTP चेम्बर ज्यामितिहरू र वेफर आकारहरू मिलाउन अनुकूल गर्न सकिन्छ।

अनुप्रयोगहरू

• द्रुत थर्मल प्रोसेसिंग (RTP)
• द्रुत थर्मल एनिलिङ (आरटीए)
• डोपान्ट सक्रियता ओक्सीकरण र एनिलिङ चरणहरू
• एकीकृत सर्किट (आईसी) निर्माण
• पावर उपकरण निर्माण प्राविधिक
  
  

निर्दिष्टीकरणहरू

किन VeTek सेमीकन्डक्टर छनौट गर्नुहोस्?

• इन-हाउस CVD SiC कोटिंग प्रक्रिया सेमीकन्डक्टर-ग्रेड आवश्यकताहरूको लागि विशेष रूपमा विकसित।
• ग्रेफाइट शुद्धीकरण, सटीक मेसिनिंग, र कोटिंग मोटाई नियन्त्रणको लागि एकीकृत क्षमताहरू।
• ब्याच उत्पादन भरि कोटिंग आसंजन र तह एकरूपता प्रमाणित।
• प्रमुख RTP उपकरण प्लेटफर्महरूसँग मिल्दो अनुकूलन ससेप्टर डिजाइनहरूको लागि इन्जिनियरिङ समर्थन।
• कडा आगमन सामग्री निरीक्षण, प्रक्रियामा अनुगमन, र अन्तिम योग्यता परीक्षणले ब्याच-टू-ब्याच स्थिरता सुनिश्चित गर्दछ।