SiC Epitaxy प्रक्रिया

VeTek सेमीकन्डक्टरको अद्वितीय कार्बाइड कोटिंग्सले माग गर्ने सेमीकन्डक्टर र कम्पोजिट सेमीकन्डक्टर सामग्रीहरूको प्रशोधनको लागि SiC Epitaxy प्रक्रियामा ग्रेफाइट भागहरूको लागि उच्च सुरक्षा प्रदान गर्दछ। नतिजा विस्तारित ग्रेफाइट घटक जीवन, प्रतिक्रिया stoichiometry को संरक्षण, epitaxy र क्रिस्टल वृद्धि अनुप्रयोगहरूमा अशुद्धता माइग्रेसन को अवरोध, फलस्वरूप उत्पादन र गुणस्तर बढ्छ।

हाम्रो ट्यान्टालम कार्बाइड (TaC) कोटिंग्सले उच्च तापक्रममा (२२०० डिग्री सेल्सियससम्म) तातो अमोनिया, हाइड्रोजन, सिलिकन वाष्प र पग्लिएको धातुहरूबाट महत्वपूर्ण भट्टी र रिएक्टर कम्पोनेन्टहरूलाई जोगाउँछ। VeTek सेमीकन्डक्टरसँग तपाईंको अनुकूलित आवश्यकताहरू पूरा गर्न ग्रेफाइट प्रशोधन र मापन क्षमताहरूको विस्तृत श्रृंखला छ, त्यसैले हामी तपाईंको र तपाईंको विशेष अनुप्रयोगको लागि सही समाधान डिजाइन गर्न तयार विशेषज्ञ इन्जिनियरहरूको टोलीसँग शुल्क-भुक्तानी कोटिंग वा पूर्ण-सेवा प्रस्ताव गर्न सक्छौं। ।

मिश्रित अर्धचालक क्रिस्टल

VeTek सेमीकन्डक्टरले विभिन्न कम्पोनेन्ट र क्यारियरहरूको लागि विशेष TaC कोटिंग्स प्रदान गर्न सक्छ। VeTek सेमीकन्डक्टरको उद्योगको अग्रणी कोटिंग प्रक्रिया मार्फत, TaC कोटिंगले उच्च शुद्धता, उच्च तापक्रम स्थिरता र उच्च रासायनिक प्रतिरोध प्राप्त गर्न सक्छ, जसले गर्दा क्रिस्टल TaC/GaN) र EPl तहहरूको उत्पादन गुणस्तर सुधार गर्न र महत्वपूर्ण रिएक्टर घटकहरूको जीवनकाल विस्तार गर्न सकिन्छ।

थर्मल इन्सुलेटरहरू

SiC, GaN र AlN क्रिस्टल ग्रोथ कम्पोनेन्टहरू क्रुसिबल, सीड होल्डरहरू, डिफ्लेक्टरहरू र फिल्टरहरू सहित। प्रतिरोधी तताउने तत्वहरू, नोजलहरू, शिल्डिङ रिङहरू र ब्रेजिङ फिक्स्चरहरू, GaN र SiC epitaxial CVD रिएक्टर कम्पोनेन्टहरू सहित वेफर क्यारियरहरू, स्याटेलाइट ट्रेहरू, शावर हेडहरू, क्यापहरू र पेडेस्टलहरू, MOCVD कम्पोनेन्टहरू सहित औद्योगिक सम्मेलनहरू।

 ● एलईडी (लाइट इमिटिङ डायोड) वेफर क्यारियर

● ALD (सेमिकन्डक्टर) रिसीभर

● EPI रिसेप्टर (SiC Epitaxy प्रक्रिया)