समाचार
उत्पादनहरू

CVD TAC लेटिंग कसरी तयार पार्ने? - VETEKINIMIMON

CVD TAC कोटिंग के हो?


CVD TAC कोटिंगउच्च शक्ति, कोर्रोसा. प्रतिरोध र राम्रो रासायनिक स्थिरताको साथ एक महत्त्वपूर्ण उच्च-तापमान संरचनात्मक सामग्री हो। यसको पग्लिन पोइन्ट 88 38800 भन्दा माथि छ, र यो सब भन्दा उच्च तापमान प्रतिरोधात्मक यौगिक हो। यसमा उत्कृष्ट उच्च-तापमान मेकानिकल गुणहरू छन्, उच्च-गति एयरफ्लो एयरफ्लो प्रतिरोध, इन्सप्लेट प्रतिरोध, र कार्बन कम्पोस्टेइट सामग्रीहरू र कम रासायनिक अनुकूलता छ।

त्यसकारण,Mocvd एपिट्याजिकल प्रक्रियाgan Loods र sic पावर उपकरणहरूको,CVD TAC कोटिंगमहान एसिड र क्षली प्रतिरोध H2, HC1, र NH3, जसले ग्राफिटी म्याट्रिक्स सामग्रीको रक्षा गर्न र वृद्धि वातावरणलाई शुद्ध गर्न सक्छ।


CVD TAC कोटिंग अझै 2000 भन्दा माथि स्थिर छ, र CVD TAC कोटिंग 1200-1400 मा विचलित हुन थाल्छ, जसले ग्राफिट म्याट्रिक्सको अखण्डतालाई सुधार गर्न थाल्छ। ग्राफिटी सब्सट्रेटमा CVD TAC कोटिंगको लागि ठूला संस्थानहरूले सीआईसी पावर उपकरणहरूको आवश्यकताहरू पूरा गर्नका लागि CVD TAC कोटिंगको लागि सीवीडी टेक कोटिंगलाई तयार गर्न सीवीएडी प्रयोग गर्दछ।


CVD Tantalum carbide को तयारी सर्तहरू कोटिंग


CVD TAC कोटिंगको तयारी प्रक्रिया सामान्यतया सब्बरेट सामग्रीको रूपमा उच्च-घनत्व गुफात्व प्रयोग गर्दछ, र दोष मुक्तता तयार गर्दछCVD TAC कोटिंगCVD विधि द्वारा ग्राफिट सतह मा।


CVD TAC कोटिंगको लागि CVD विधिको अनुभूति प्रक्रिया निम्नानुसार छ: बालसाइज कक्षमा राखिएको ठोस टन्टलमुयम स्रोत, एक निश्चित तापमान कंटरमा सर्दै छ एक निश्चित तापक्रममा, ग्याससूत tantalum स्रोत भेट्टाउँछ र कटौती प्रतिक्रिया प्राप्त गर्न हाइड्रोजनको साथ मिक्स गर्दछ। अन्त्यमा, कम टन्टलमुलियम एलिमेन्ट ग्रेफिट कक्षमा ग्राफिटी सब्सट्रेटको सतहमा जम्मा गरिन्छ, र एक कार्बोनिजेट प्रतिक्रिया निश्चित तापमान मा हुन्छ।


प्रक्रिया प्यारामिटरहरू जस्तै वाष्पीकरण तापमान, ग्यास प्रवाह दर, र CVD TAC कोटिंगको प्रक्रियामा एक धेरै महत्त्वपूर्ण भूमिका खेलेको छ।CVD TAC कोटिंग। र CVD TAC को कोकेटिंग मिश्रित अभिमुखीकरणको साथ कोटिंग 1 1800 is00 डिग्री सेल्सियसमा तैयार गरिएको छ कि 1 1800 डिग्री सेल्सियसको प्रयोग गरी ट्याकेल han-h2-c3h6 प्रणाली प्रयोग गर्दै।


CVD TAC कोटिंगको तयारी गर्ने प्रक्रिया



Figure 1 shows the configuration of the chemical vapor deposition (CVD) reactor and the associated gas delivery system for TaC deposition

चित्र 1 ले रासायनिक बाफ कस्वंजिन (CVD) रिफरेशन र TAC जम्माका लागि एडिएड ग्यास डेलिभरी प्रणालीको कन्फिगरेसन देखाउँदछ।


Figure 2 shows the surface morphology of the CVD TaC coating at different magnifications, showing the density of the coating and the morphology of the grains

चित्र 2 ले CVD TAC TAC को मोर्फिकोलोजीलाई विभिन्न शानदारहरूको रूपमा देखाउँदछ, कोटिंगको घनत्व देखाउँदै र अन्नको मोर्फिलोजी देखाउँदछ।


Figure 3 shows the surface morphology of the CVD TaC coating after ablation in the central area, including blurred grain boundaries and fluid molten oxides formed on the surface

चित्र See मध्य क्षेत्रमा एरियाको सतह मोर्फोलोजी देखाउँदछ जुन मध्य क्षेत्रमा एब्रोले सतहमा गठन गरिएको तरल पदार्थको खोला लगायत।


it shows the XRD patterns of the CVD TaC coating in different areas after ablation, analyzing the phase composition of the ablation products, which are mainly β-Ta2O5 and α-Ta2O5

आंकडा ले इलेन्सेशन उत्पादनहरूको संरचना विश्लेषण गर्दै, एलेन्स तलको XRD बान्की देखाउँदछ, जुन मुख्य रूपमा-Ta2o5 र 2o5 हो।

सम्बन्धित समाचार
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept