वेफर क्यारियरको लागि CVD SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर
वेफर क्यारियरको लागि VETEK CVD SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर अर्धचालक एपिटाक्सी प्रक्रियाहरूको लागि डिजाइन गरिएको उच्च-प्रदर्शन वेफर समर्थन घटक हो। उत्पादनले सब्सट्रेटको रूपमा उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट प्रयोग गर्दछ र एक समान CVD सिलिकन कार्बाइड (SiC) तहको साथ लेपित छ, उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, रासायनिक प्रतिरोध, र कण नियन्त्रण प्रदान गर्दछ। एक महत्वपूर्ण ग्रेफाइट ससेप्टर कम्पोनेन्टको रूपमा, यसले प्रतिक्रिया कक्ष भित्र वेफर्सहरूलाई प्रत्यक्ष रूपमा समर्थन गर्दछ र समान तापमान वितरण र स्थिर एपिटेक्सियल वृद्धि अवस्थाहरू कायम राख्न मद्दत गर्दछ।
उच्च शुद्धता सामग्री:अर्धचालक-ग्रेड ग्रेफाइट सामग्री र घने SiC कोटिंग संरचनाले प्रदूषण जोखिमहरू कम गर्छ र CVD SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टरको विश्वसनीयता सुधार गर्दछ।
उत्कृष्ट थर्मल एकरूपता:अनुकूलित ग्रेफाइट संरचना र SiC कोटिंगले स्थिर गर्मी स्थानान्तरण र समान वेफर तापमान नियन्त्रण प्रदान गर्दछ।
उच्च रासायनिक प्रतिरोध:घने SiC कोटिंगले प्रक्रिया ग्यासहरू र संक्षारक वातावरणहरू विरुद्ध बलियो प्रतिरोध प्रदान गर्दछ।
लामो सेवा जीवन:उच्च कठोरता र पहिरन प्रतिरोधले उच्च-तापमान एपिटेक्सी अवस्थाहरूमा स्थायित्व सुधार गर्दछ।
कम कण उत्पादन:बाक्लो CVD SiC सतहले कण रिलीज घटाउँछ र वेफर प्रक्रिया विश्वसनीयता सुधार गर्दछ।
अनुकूलित डिजाइन क्षमता:उपकरण आवश्यकताहरु अनुसार विभिन्न आकार, संरचना, र कन्फिगरेसन मा उपलब्ध छ।
2. प्राविधिक विशिष्टताहरू
वस्तु
सामान्य मान
सब्सट्रेट सामाग्री
उच्च शुद्धता ग्रेफाइट
कोटिंग सामाग्री
CVD सिलिकन कार्बाइड (SiC)
SiC शुद्धता
≥९९.९९९%
कोटिंग मोटाई
100 ± 20 μm (अनुकूलन योग्य)
कोटिंग मोटाई एकरूपता
ब्याचहरू बीच 10 μm भित्र नियन्त्रित
CVD SiC कोटिंगको घनत्व
३.२१ ग्राम/सेमी³
थर्मल चालकता
300 W/m·K
थर्मल विस्तार गुणांक
४.५ × १०⁻⁶/K
3. अनुप्रयोगहरू
SiC Epitaxy प्रक्रिया:ग्रेफाइट ससेप्टरलाई SiC epitaxy उपकरणमा वेफर वाहकको रूपमा प्रयोग गरिन्छ, उच्च-तापमान एपिटेक्सियल वृद्धिको समयमा SiC सब्सट्रेटहरूलाई समर्थन गर्दछ।
सिलिकन एपिटेक्सी प्रक्रिया:वेफर्सलाई समर्थन गर्न र स्थिर थर्मल अवस्थाहरू कायम राख्न सिलिकन एपिटेक्सियल रिएक्टरहरूमा लागू गरियो।
MOCVD Epitaxy:VETEK ग्रेफाइट ससेप्टरहरू MOCVD, LED epitaxy, GaN epitaxy, सिलिकन epitaxy, र उत्कृष्ट थर्मल एकरूपता र रासायनिक स्थिरता चाहिने अन्य अर्धचालक निर्माण प्रक्रियाहरूको लागि उपयुक्त छन्।
अर्धचालक निर्माण उपकरण:LPE तेर्सो फर्नेसहरू, Aixtron, NuFlare, र सम्बन्धित अर्धचालक उपकरणहरू सहित विभिन्न एपिटेक्सी प्लेटफर्महरूसँग उपयुक्त।
4. किन VETEK छनौट गर्ने?
VETEK ले अनुकूलित CVD SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर समाधानहरू प्रदान गर्दछ जुन ग्रेफाइट शुद्धीकरण, सटीक मेसिनिंग, CVD कोटिंग, र निरीक्षण क्षमताहरू एकीकृत गर्दछ। हाम्रो अर्धचालक-ग्रेड ग्रेफाइट ससेप्टर उत्पादनहरूले उच्च शुद्धता, एकसमान कोटिंग मोटाई, उत्कृष्ट थर्मल कार्यसम्पादन, र वेफर क्यारियर अनुप्रयोगहरूको मागको लागि लामो सेवा जीवन सुविधा दिन्छ।
हट ट्यागहरू: CVD SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर, ग्रेफाइट ससेप्टर, SiC लेपित ग्रेफाइट वेफर वाहक, सेमीकन्डक्टर एपिटेक्सी ससेप्टर, MOCVD ग्रेफाइट ससेप्टर, SiC वेफर वाहक, CVD SiC ग्रेफाइट ससेप्टर
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
हामी तपाईंलाई राम्रो ब्राउजिङ अनुभव प्रदान गर्न, साइट ट्राफिक विश्लेषण र सामग्री निजीकृत गर्न कुकीहरू प्रयोग गर्छौं। यो साइट प्रयोग गरेर, तपाईं कुकीहरूको हाम्रो प्रयोगमा सहमत हुनुहुन्छ। गोपनीयता नीति