ICP/PSS नक्काशी प्रक्रिया

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Etching Process Wafer Carrier विशेष गरी सेमीकन्डक्टर उद्योगको नक्काशी प्रक्रियाहरूको माग गरिएका आवश्यकताहरू पूरा गर्न डिजाइन गरिएको हो। यसको उन्नत सुविधाहरूको साथ, यसले नक्काशी प्रक्रियामा इष्टतम प्रदर्शन, दक्षता र विश्वसनीयता सुनिश्चित गर्दछ।

VeTek अर्धचालक ICP/PSS Etching प्रक्रिया Susveptors को फाइदा:

परिष्कृत रासायनिक अनुकूलता: वेफर क्यारियर सामग्रीहरू प्रयोग गरेर निर्माण गरिन्छ जुन नक्काशी प्रक्रिया रसायनहरूसँग उत्कृष्ट रासायनिक अनुकूलता प्रदर्शन गर्दछ। यसले रासायनिक प्रतिक्रिया वा प्रदूषणको जोखिमलाई न्यूनीकरण गर्दै विभिन्न प्रकारका इचेन्टहरू, प्रतिरोधी स्ट्रिपर्सहरू र सफाई समाधानहरूको साथ अनुकूलता सुनिश्चित गर्दछ।

उच्च तापमान प्रतिरोध: वेफर वाहक नक्काशी प्रक्रियाको समयमा सामना गरेको उच्च तापमान सामना गर्न डिजाइन गरिएको छ। यसले यसको संरचनात्मक अखण्डता र मेकानिकल बल कायम राख्छ, चरम थर्मल अवस्थाहरूमा पनि विरूपण वा क्षतिलाई रोक्न।

सुपीरियर ईच एकरूपता: क्यारियरले सटीक रूपमा इन्जिनियर गरिएको डिजाइन फिचर गर्दछ जसले वेफर सतहमा इचेन्ट र ग्यासहरूको समान वितरणलाई बढावा दिन्छ। यसले लगातार नक्काशी दरहरू र उच्च-गुणस्तर, एकसमान ढाँचाहरू, सटीक र भरपर्दो नक्काशी परिणामहरू प्राप्त गर्न आवश्यक हुन्छ।

उत्कृष्ट वेफर स्थिरता: क्यारियरले एक सुरक्षित वेफर होल्डिङ मेकानिजम समावेश गर्दछ जसले स्थिर स्थिति सुनिश्चित गर्दछ र नक्काशी प्रक्रियाको क्रममा वेफर आन्दोलन वा स्लिपेजलाई रोक्छ। यसले सही र दोहोर्याउन मिल्ने नक्काशी ढाँचाहरूको ग्यारेन्टी गर्दछ, दोषहरू र उपज हानिलाई कम गर्दै।

क्लीनरूम अनुकूलता: वेफर क्यारियर सख्त क्लीनरूम मापदण्डहरू पूरा गर्न डिजाइन गरिएको हो। यसले कम कण उत्पादन र उत्कृष्ट सरसफाइ सुविधा दिन्छ, कुनै पनि कण प्रदूषणलाई रोक्न जसले नक्काशी प्रक्रियाको गुणस्तर र उपजमा सम्झौता गर्न सक्छ। अशुद्धता 5ppm भन्दा कम छ।

बलियो र टिकाउ निर्माण: वाहक उच्च-गुणस्तरको सामग्रीहरू प्रयोग गरेर ईन्जिनियर गरिएको छ जुन तिनीहरूको स्थायित्व र लामो आयुको लागि परिचित छ। यसले यसको प्रदर्शन वा संरचनात्मक अखण्डतामा सम्झौता नगरी बारम्बार प्रयोग र कठोर सफाई प्रक्रियाहरूको सामना गर्न सक्छ।

अनुकूलन योग्य डिजाइन: हामी विशिष्ट ग्राहक आवश्यकताहरू पूरा गर्न अनुकूलन विकल्पहरू प्रस्ताव गर्दछौं। क्यारियरलाई विभिन्न वेफर साइज, मोटाई, र प्रक्रिया विशिष्टताहरू समायोजन गर्न मिलाउन सकिन्छ, विभिन्न नक्काशी उपकरण र प्रक्रियाहरूसँग अनुकूलता सुनिश्चित गर्दै।

हाम्रो ICP/PSS Etching Process Wafer Carrier को विश्वसनीयता र कार्यसम्पादनको अनुभव लिनुहोस्, अर्धचालक उद्योगमा नक्काशी प्रक्रियालाई अनुकूलन गर्न डिजाइन गरिएको। यसको परिष्कृत रासायनिक अनुकूलता, उच्च-तापमान प्रतिरोध, उत्कृष्ट नक्काशी एकरूपता, उत्कृष्ट वेफर स्थिरता, क्लिनरूम अनुकूलता, बलियो निर्माण, र अनुकूलन योग्य डिजाइनले यसलाई तपाईंको नक्काशी अनुप्रयोगहरूको लागि आदर्श विकल्प बनाउँछ।

PSS नक्काशी प्लेट आईसीपी इचिङ प्लेट ICP Etching ससेप्टर