SiC लेपित बैरल ससेप्टर

VETEK CAMIMonducore एक अग्रणी चीन sic कोटिंग र Tac कोटिंग निर्माता, आपूर्तिकर्ता र निर्यातकर्ता हो। उत्पादहरूको पूर्ण गुणको खोजीको पालना गर्दै, ताकि हाम्रो अनुभीत ब्यारेल सूटशाला धेरै ग्राहकहरूले सन्तुष्ट भएका छन्। चरम डिजाइन, गुणस्तरीय कच्चा माल, उच्च प्रदर्शन र प्रतिस्पर्धी मूल्य हरेक ग्राहक चाहान्छ, र यो पनि हामी तपाइँलाई प्रस्ताव गर्न सक्छ। निस्सन्देह, बिक्री सेवा पछि हाम्रो उत्तम पनि छ। यदि तपाईं हाम्रो अनुमानित ब्यारेल संक्रामक सेवाहरूमा रुचि राख्नुहुन्छ भने, तपाईं हामीलाई परामर्श लिन सक्नुहुन्छ, हामी तपाईंलाई समयमै जवाफ दिनेछौं!

VETEK SEMIMDODUCTUCER CIC लेपित ब्यारेल परिक्वर्षर्ता मुख्यतया lpe एस एपीआई एपीआई रियरको लागि प्रयोग गरीरहेको छ

Lpe (तरल चरणको एपिटक्सिक्स) सिलिकन उपस्थितिमा सिलिकन फिकरनको पातलो तहहरूको टुक्राहरू जम्मा गर्न सामान्य रूपमा प्रयोग गरिएको अर्धचाल वृद्धि प्रविधि हो। यो एक तरल चरणको विकास विधि हो क्रिस्टल बृद्धि हासिल गर्नको लागि समाधानको आधारमा यो एक तरल चरणको प्रतिक्रिया हो।

Lap सिलिकन एपिट्याक्सको आधारभूत सिद्धान्तमा इच्छित सामग्री, तापमान र समाधान कम्पोजिट नियन्त्रणमा सब्जीरलाई निहुरिएर एकल इस्टल सिलिकन लेयरको रूपमा बढ्न अनुमति दिँदै सब्सट्रेट सतह मा। समृद्धिपूर्ण बृद्धि, इच्छित क्रिस्टल गुणवत्ता, मोटाई, मोटाई, र doping एकाग्रता समयमा वृद्धि सर्तहरू र समाधान समायोजन प्राप्त गर्न सकिन्छ।

LPE सिलिकन एपिटेक्सीले धेरै विशेषताहरू र फाइदाहरू प्रदान गर्दछ। पहिलो, यो अपेक्षाकृत कम तापमान मा प्रदर्शन गर्न सकिन्छ, थर्मल तनाव कम गर्न र सामग्री मा अशुद्धता प्रसार। दोस्रो, एलपीई सिलिकन एपिटेक्सीले उच्च एकरूपता र उत्कृष्ट क्रिस्टल गुणस्तर प्रदान गर्दछ, उच्च प्रदर्शन अर्धचालक उपकरणहरू निर्माणको लागि उपयुक्त। थप रूपमा, LPE टेक्नोलोजीले जटिल संरचनाहरूको विकासलाई सक्षम बनाउँछ, जस्तै बहु-तह र हेटेरोस्ट्रक्चर।

Lpe सिलिकन एपिटक्साएक्साक्समा, SIC लेपित ब्यारेल परिक्रामक कम्प्याटिल घटक हो। यो सामान्यतया तापमान र वातावरणीय नियन्त्रण प्रदान गर्दा स्यान्सियल बृद्धिका लागि आवश्यक सिलिकन सब्सट्रेटहरू समात्न र समर्थन गर्न प्रयोग गरिन्छ। अनुमानित पक्षको उच्च-तापमान रसायनिक स्थिरता र रासायनिक स्थिरता बढाउँदछ, एपिटाजिकल बृद्धि प्रक्रियाको आवश्यकताहरू पूरा गर्दछ। अनुमानित ब्यारेल परिसरका संवादको उपयोग गरेर, उपनियमता विकासको दक्षता र स्थिरता सुधार गर्न सकिन्छ र उच्च-गुणको एपिटाइजिकल तहहरूको विकास सुनिश्चित गर्न सकिन्छ।

CVD SiC कोटिंग को आधारभूत भौतिक गुण

CVD SIC फिल्म क्रिस्टल संरचना

यो अर्ध मजदुरSIC लेपित ब्यारेल संतक्षीय संसाधन पसलहरू