सिलिकन कार्बाइड कोटिंग

VeTek बाट यो AMAT 0200-03201 वेफर लिफ्ट पिन उच्च-शुद्धता ग्रेफाइटबाट सुरु हुन्छ, त्यसपछि हामी माथि एक बाक्लो CVD SiC कोटिंग थप्छौं। यो 300mm epitaxy प्रणाली र एप्लाइड सामग्री EPI रिएक्टरहरूको लागि बनाइएको छ। ग्रेफाइट र SiC किन? ग्रेफाइटले गर्मीलाई राम्रोसँग ह्यान्डल गर्छ। SiC लेयरले संक्षारक ग्यासहरू लिन्छ र चाँडै बाहिर जाँदैन। पातलो पर्खाल डिजाइन? त्यो क्लिनर वेफर लिफ्टिङ र स्थिति, कम कणहरू, र उच्च तापमान अन्तर्गत लामो भाग जीवनको लागि हो। हामी ASM, Aixtron, र LPE प्रणालीहरूको लागि समान SiC लेपित ग्रेफाइट भागहरू पनि बनाउँछौं। तपाईको सोधपुछको लागि तत्पर छ।

Vetek Semiconductor ले VEECO MOCVD प्रणालीहरूका लागि वेफर क्यारियरहरू बनाउँछ, विशेष रूपमा LED epitaxy कार्यहरू जस्तै GaN LEDs, नीलो-हरियो LEDs, र गहिरो UV LED वृद्धिको लागि निर्मित। यी वाहकहरू उच्च-शुद्धता ग्रेफाइटबाट सुरु हुन्छन् र घना CVD सिलिकन कार्बाइड (SiC) कोटिंग पाउँछन्। त्यो संयोजन तपाईले MOCVD मा देख्नुहुने उच्च तापक्रम अन्तर्गत राम्रोसँग राख्छ - राम्रो थर्मल स्थिरता, जंग प्रतिरोध, र कोटिंग टिक्छ।

हाफमुन LPE SiC रिएक्टरहरू भित्र प्रयोग हुने ग्रेफाइट कम्पोनेन्ट हो, मुख्यतया च्याम्बर तातो क्षेत्र वरिपरि स्थापित हुन्छ। यद्यपि यसले वेफरलाई सीधा सम्पर्क गर्दैन, यसले अझै पनि ग्यास प्रवाह स्थिरता र epitaxial वृद्धिको समयमा रिएक्टर सञ्चालनमा भूमिका खेल्छ। उच्च तापक्रम र प्रतिक्रियाशील प्रक्रिया अवस्थाहरू ह्यान्डल गर्न, कम्पोनेन्ट सामान्यतया CVD SiC कोटिंगद्वारा सुरक्षित हुन्छ, जबकि TaC कोटिंग केही अनुप्रयोगहरूको लागि पनि उपलब्ध छ। VETEK ले SiC epitaxy प्रणालीहरूको लागि ग्रेफाइट इन्सुलेशन र अन्य लेपित ग्रेफाइट भागहरू पनि आपूर्ति गर्दछ।

8-इन्च SiC epi शीर्ष रिंग अर्धचालक रिएक्टरहरूको लागि हार्डवेयर भाग हो। यसले Si/SiC epitaxy र MOCVD/CVD प्रणालीहरूमा काम गर्छ। यो औंठीले चेम्बर भित्रको तापलाई स्थिर गर्छ। यसले ग्यासको प्रवाहलाई पनि नियन्त्रण गर्छ। सामग्री उच्च शुद्धता CVD सिलिकन कार्बाइड हो। यसमा ग्रेफाइटको बहिर्गमन समस्याहरू छैनन्। यसले उत्पादनको क्रममा कण प्रदूषणलाई पनि कम गर्छ। हामी तपाईंको सोधपुछलाई स्वागत गर्दछौं।

VETEK MOCVD SiC कोटेड ससेप्टर एक सटीक-इन्जिनियर गरिएको क्यारियर समाधान हो जुन विशेष रूपमा एलईडी र कम्पाउन्ड सेमीकन्डक्टर एपिटेक्सियल वृद्धिको लागि विकसित गरिएको छ। यसले जटिल MOCVD वातावरण भित्र असाधारण थर्मल एकरूपता र रासायनिक जडता देखाउँछ। VETEK को कठोर CVD डिपोजिसन प्रक्रियाको फाइदा उठाउँदै, हामी तपाईंको अर्धचालक उत्पादनको प्रत्येक ब्याचको लागि स्थिर र भरपर्दो कार्यसम्पादन आश्वासन प्रदान गर्दै, वेफर वृद्धि स्थिरता बढाउन र कोर कम्पोनेन्टहरूको सेवा जीवन विस्तार गर्न प्रतिबद्ध छौं।

Veteksemicon ठोस सिलिकन कार्बाइड (SiC) फोकसिङ रिंग उन्नत अर्धचालक एपिटेक्सी र प्लाज्मा नक्काशी प्रक्रियाहरूमा प्रयोग गरिने एक महत्वपूर्ण उपभोग्य कम्पोनेन्ट हो, जहाँ प्लाज्मा वितरण, थर्मल एकरूपता, र वेफर किनार प्रभावहरूको सटीक नियन्त्रण आवश्यक छ। उच्च-शुद्धता ठोस सिलिकन कार्बाइडबाट निर्मित, यो फोकस गर्ने औंठीले असाधारण प्लाज्मा इरोसन प्रतिरोध, उच्च-तापमान स्थिरता, र रासायनिक जडता प्रदर्शन गर्दछ, आक्रामक प्रक्रिया परिस्थितिहरूमा विश्वसनीय प्रदर्शन सक्षम पार्दै। हामी तपाईको सोधपुछको लागि तत्पर छौं।