समाचार

केमिकल मेकानिकल पॉलिशिङ (CMP) ले रासायनिक प्रतिक्रिया र मेकानिकल घर्षणको संयुक्त कार्य मार्फत अतिरिक्त सामग्री र सतह दोषहरू हटाउँछ। यो वेफर सतहको विश्वव्यापी प्लानराइजेशन प्राप्त गर्नको लागि एक प्रमुख प्रक्रिया हो र बहु-तह तामा इन्टरकनेक्टहरू र कम-के डाइलेक्ट्रिक संरचनाहरूको लागि अपरिहार्य छ। व्यावहारिक उत्पादन मा

2025 मा, युरोपेली अर्धचालक उद्योग एक पटक फेरि म्यूनिखमा 18-21 नोभेम्बर सम्मको सबैभन्दा ठूलो अर्धचालक व्यापार मेला SEMICON Europa मा भेट्नेछ।

सिलिकन वेफर सीएमपी (केमिकल मेकानिकल प्लानराइजेशन) पॉलिशिंग स्लरी अर्धचालक निर्माण प्रक्रियामा एक महत्वपूर्ण घटक हो। सिलिकन वेफरहरू - एकीकृत सर्किटहरू (ICs) र माइक्रोचिपहरू सिर्जना गर्न प्रयोग गरिन्छ - उत्पादनको अर्को चरणहरूको लागि आवश्यक सहजताको सही स्तरमा पालिश गरिएको छ भन्ने सुनिश्चित गर्न यसले महत्त्वपूर्ण भूमिका खेल्छ।

अर्धचालक निर्माणमा, केमिकल मेकानिकल प्लानराइजेशन (CMP) ले महत्त्वपूर्ण भूमिका खेल्छ। सीएमपी प्रक्रियाले सिलिकन वेफर्सको सतहलाई चिल्लो बनाउन रासायनिक र मेकानिकल कार्यहरू संयोजन गर्दछ, पछिका चरणहरू जस्तै पातलो-फिल्म डिपोजिसन र एचिंगको लागि एक समान आधार प्रदान गर्दछ। CMP पालिश गर्ने स्लरी, यस प्रक्रियाको मुख्य भागको रूपमा, महत्त्वपूर्ण रूपमा पालिश गर्ने दक्षता, सतहको गुणस्तर, र उत्पादनको अन्तिम प्रदर्शनलाई असर गर्छ।

वेफर सीएमपी पॉलिशिंग स्लरी एक विशेष तरल पदार्थ हो जुन सेमीकन्डक्टर निर्माणको सीएमपी प्रक्रियामा प्रयोग गरिन्छ। यसमा पानी, रासायनिक नक्काशीहरू, घर्षणहरू, र सर्फेक्टन्टहरू हुन्छन्, जसले रासायनिक नक्काशी र मेकानिकल पालिसिङ दुवै सक्षम गर्दछ।

सिलिकन कार्बाइड एब्रेसिभहरू सामान्यतया क्वार्ट्ज र पेट्रोलियम कोक प्रयोग गरेर प्राथमिक कच्चा मालको रूपमा उत्पादन गरिन्छ। तयारी चरणमा, यी सामग्रीहरूलाई फर्नेस चार्जमा रासायनिक रूपमा अनुपातित हुनु अघि इच्छित कण आकार प्राप्त गर्न मेकानिकल प्रशोधन गरिन्छ।